佳能新专利改善高密度传感器

西风瘦马

佳能在近日公开的一份专利中，提出了一种在传感器内层镜片和光电二极管之间嵌入高折射层的新技术。新技术利用高折射层自身特性，提高传感器的光线收集能力和相位差检测对焦速度。

ML：微透镜层，ML2：内层镜片，LL：低折射层，HL：高折射层，PD：光电二极管，SL：遮光层，P：像素尺寸，D：层间膜厚度，W：透光间隙宽度

佳能此项专利于2011年1月20日注册，2012年8月9日公开，特许公开号：No. 2012-151367。

现有传感器内的光电二极管无法收集透光间隙外的光线

由于现有的背照式CMOS传感器在微透镜和光电二极管之间只有一层低折射层，光电二极管无法收集遮光层间隙以外的光线，而且随着像素密度的增加，遮光层的透光间隙宽度也会随之减小，严重影响传感器的光线收集能力和相位差检测对焦速度。
一般微透镜折射率为1.6，低折射层的折射率为1.45，佳能此项新技术使用的高折射层的折射率达到了2.3。新技术通过在内层镜片和光电二极管之间嵌入高折射层，将所有入射光线都聚焦在透光间隙内，从而达到提高光线收集能力和相位差检测对焦速度的目的。

看起来，佳能的这项专利与月初尼康公布的改善传感器光线收集能力专利似乎是异曲同工。

依旧涛声

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